从美方对华为的打压来看，落后就要挨打这句话又在今天得以验证。虽然目前东方大国在经济，科技以及工业方面都有着显著提升，正在向强国迈进。不过由于各方面和超级大国美方还有着一些差距，因此，在核心技术以及核心产业方面，我方都没有足够的话语权，一旦遭遇竞争的风口浪尖，难免就会受制于人。



就比如说华为，其通信设备以及5g网络方面的技术都已经做到世界领先，并且能够独自设计性能先进的芯片，按理说华为已经做到了很强的地步。但是在芯片制造方面，不仅仅是华为，整个东方大国都还落后于西方，因此，在芯片制造上不得不被美方卡住脖子。就比如位于芯片制造核心地位的光刻机，由于技术掌握在人家的手里，这就足以让华为感到无可奈何。目前台积电主要的光刻机进口都要依靠荷兰asml，而高端光刻机，其光源系统的来源就是美方。



不过就在大家为华为的未来感到担忧的时候，中科院却发出了令人振奋的消息。据有关媒体报道，中科院苏州所已经发表了关于新型5纳米级高精度激光光刻加工方法，这项技术诞生于苏州纳米技术与纳米仿生研究所。这标志着国产五纳米激光光刻取得重大进展，专家也表示，这完全可能打破西方封锁，这次中科院又立功了。目前国内半导体产业还无法摆脱对asml光刻机的依赖，如果在这项技术上面取得突破，那么东方大国将用实力打破asml光刻机的垄断。



据了解，负责研发这项纳米激光光刻技术的张子旸团队已经开发了一种新型的三层堆叠薄膜结构，再通过双激光束交叠，对能量密度及其波长进行精确控制，在线宽上面能够将宽度精确到五纳米。而目前asml的光刻技术是基于euv极紫外光刻，这是和asml完全不同的一种新的技术路线。



不过这项技术仅仅是在实验阶段得到了一个突破而已，从实验到真正的应用，并且实现量产并不是一个简单的过程。目前asml光刻机仍然是占据垄断地位，也是美方利用自身影响力遏制我方企业的一大利器。但是上述技术的突破已经证明此项研究是可行的，我方完全可以利用此项技术作为让美方开放光刻机的筹码，如此就可以大大减轻华为所面临的压力。