美国对华为等中国科技企业的打压，让我们明白了两个道理：一是落后就要挨打；二是科学无国界，科技是有国界的。中国这些年在科技方面取得了很大的进步，正在由经济大国走向科技强国。当美国看到这样一个东方大国崛起时，不得不采取一些不正当的措施，来限制打压。我国现在虽然变强了，但是在核心科技方面，和美国这样的老牌科技大国之间还是有非常大的差距。这样的受制于人，让我国彻底失去了话语权，在竞争的过程中，只能处处受限。

最好的例子就是华为，华为在通信行业深耕了数十年，通信设备遍布全球一百多个国家，尤其是现在最新的5G技术，华为走在了前面，甩开欧美等国家两年。再加上华为拥有自主研发的麒麟芯片，达到了和芯片巨头高通叫板的地步，这样的华为，确实已经是非常的强大了，让美国坐立不安，这才极力打压。现在是全球一体化，就说芯片行业，没有任何一家公司可以独立完成。美国正是看到了这一点，对华为进行断供，让华为芯片的制造停滞不前，卡住了华为的脖子。在芯片的制造过程中，有一个非常重要的设备叫做光刻机，而核心的技术都掌握在西方人手里，这让华为无能为力。就连台积电这么的芯片制造大厂，都在使用荷兰ASML。

就在大家持续关注中国芯片的发展，为华为后续的芯片制造担忧的同时，中国权威机构中科院发布了又一重磅消息。中科院苏州研究所已经研发成功了新型5nm高精度的激光光刻技术， 标志着我国的5nm光刻技术取得了重大进展。只要时机成熟，将有望打破ASML的封锁，减少对ASML的依赖，增加我国在光刻机方面的话语权。

对于这项最新的技术，目前已经开发成功了三层堆叠薄膜结构，通过对激光束的精准控制，从而实现精度5nm的目标。对于光刻机，相信使用手机的朋友都有了解，在手机处理器这里，通常7nm+EUV封装的说明，而荷兰ASML正是采用这种极紫外光刻的技术，中国自主研发的这一项是完全区别于EUV技术的一项全新技术。

不过我们也不能盲目乐观，这一项激光光刻技术只是在实验阶段取得了重大进展，距离应用还有很远的一段路要走，更别说实现量产了。不过，有总比没有强太多，希望有更多的突破。从实际情况来看，在未来很长一段时间内，荷兰的ASML光刻机依旧是垄断地位。这也是美国打压华为等中国科技企业的一张王牌，而随着我国光刻技术的突破，尤其是最新的这项5nm激光光刻技术，已经证实是可行的，只需要进一步完善，相信在未来光刻机市场，可以打破ASML的封锁，增加我国竞争力，也让包括华为在内因为芯片打压的科技企业，可以少承受一些非正常手段的打压！